ହାଫନିୟମ୍ ଟେଟ୍ରାକ୍ଲୋରାଇଡ୍ | HfCl4 ପାଉଡର | CAS 13499-05-3 | କାରଖାନା ମୂଲ୍ୟ

ସଂକ୍ଷିପ୍ତ ବର୍ଣ୍ଣନା:

ହାଫନିୟମ୍ ଟେଟ୍ରାକ୍ଲୋରାଇଡ୍‌ର ଏକ ପ୍ରମୁଖ ପ୍ରୟୋଗ ହାଫନିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍‌ର ଏକ ଅଗ୍ରଦୂତ, ଜୈବିକ ସଂଶ୍ଳେଷଣ, ପରମାଣୁ ପ୍ରୟୋଗ ଏବଂ ପତଳା ଫିଲ୍ମ ଜମା ପାଇଁ ଉତ୍ପ୍ରକାଶକ ଭାବରେ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ପ୍ରୟୋଗ, ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା କ୍ଷେତ୍ରରେ ଏହାର ବହୁମୁଖୀତା ଏବଂ ଗୁରୁତ୍ୱକୁ ଉଲ୍ଲେଖ କରେ।

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

ଆମକୁ ଇମେଲ୍ ପଠାନ୍ତୁ

ଉତ୍ପାଦ ବିବରଣୀ

ଉତ୍ପାଦ ଟ୍ୟାଗ୍‌ଗୁଡ଼ିକ

ଉତ୍ପାଦ ବର୍ଣ୍ଣନା

ସଂକ୍ଷିପ୍ତ ପରିଚୟ

ଉତ୍ପାଦ ନାମ: ହାଫନିୟମ୍ ଟେଟ୍ରାକ୍ଲୋରାଇଡ୍
CAS ନମ୍ବର: ୧୩୪୯୯-୦୫-୩
ଯୌଗିକ ସୂତ୍ର: HfCl4
ଆଣବିକ ଓଜନ: 320.3
ଦୃଶ୍ୟମାନତା: ଧଳା ପାଉଡର

ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟକରଣ

ଆଇଟମ୍‌	ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟକରଣ
ଦୃଶ୍ୟମାନତା	ଧଳା ପାଉଡର
HfCl4+ZrCl4	≥୯୯.୯%
Zr	≤୨୦୦ପିପିଏମ୍
Fe	≤୪୦ପିପିଏମ୍
Ti	≤୨୦ପିପିଏମ୍
Si	≤୪୦ପିପିଏମ୍
Mg	≤୨୦ପିପିଏମ୍
Cr	≤୨୦ପିପିଏମ୍
Ni	≤୨୫ ପିପିଏମ୍
U	≤5ppm
Al	≤60ପିପିଏମ୍

ପ୍ରୟୋଗ

ହାଫନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ପ୍ରିକର୍ସର୍‌: ହାଫନିୟମ୍ ଟେଟ୍ରାକ୍ଲୋରାଇଡ୍ ମୁଖ୍ୟତଃ ହାଫନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ (HfO2) ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ଏକ ପୂର୍ବବର୍ତ୍ତୀ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ, ଏହା ଏକ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ଡାଇଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ଗୁଣ ସହିତ ଏକ ସାମଗ୍ରୀ। HfO2 ଅର୍ଦ୍ଧପରିବାହୀ ଶିଳ୍ପରେ ଟ୍ରାଞ୍ଜିଷ୍ଟର ଏବଂ କ୍ୟାପାସିଟର ପାଇଁ ଉଚ୍ଚ-k ଡାଇଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ପ୍ରୟୋଗରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ। ହାଫନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡର ପତଳା ଫିଲ୍ମ ଗଠନ କରିବାର କ୍ଷମତା ହେତୁ HfCl4 ଉନ୍ନତ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ଉପକରଣ ନିର୍ମାଣରେ ଅତ୍ୟାବଶ୍ୟକ।
ଜୈବିକ ସଂଶ୍ଳେଷଣ ଉତ୍ପ୍ରକାଶକ: ହାଫନିୟମ୍ ଟେଟ୍ରାକ୍ଲୋରାଇଡ୍ ବିଭିନ୍ନ ଜୈବିକ ସଂଶ୍ଳେଷଣ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା, ବିଶେଷକରି ଓଲେଫିନ୍ ପଲିମରାଇଜେସନ୍ ପାଇଁ ଏକ ଉତ୍ପ୍ରକାଶକ ଭାବରେ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ। ଏହାର ଲୁଇସ୍ ଏସିଡ୍ ଗୁଣ ସକ୍ରିୟ ମଧ୍ୟବର୍ତ୍ତୀ ଗଠନ କରିବାରେ ସାହାଯ୍ୟ କରେ, ଯାହା ଦ୍ଵାରା ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାର ଦକ୍ଷତା ଉନ୍ନତ ହୁଏ। ରାସାୟନିକ ଶିଳ୍ପରେ ପଲିମର ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ଜୈବିକ ଯୌଗିକ ଉତ୍ପାଦନରେ ଏହି ପ୍ରୟୋଗ ମୂଲ୍ୟବାନ।
ନ୍ୟୁକ୍ଲିୟର ପ୍ରୟୋଗ: ଏହାର ଉଚ୍ଚ ନ୍ୟୁଟ୍ରନ୍ ଅବଶୋଷଣ କ୍ରସ୍ ସେକ୍ସନ୍ ଯୋଗୁଁ, ହାଫନିୟମ୍ ଟେଟ୍ରାକ୍ଲୋରାଇଡ୍ ନ୍ୟୁକ୍ଲିୟର ପ୍ରୟୋଗରେ, ବିଶେଷକରି ନ୍ୟୁକ୍ଲିୟର ରିଆକ୍ଟରର ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ରଡ୍‌ରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ। ହାଫନିୟମ୍ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ଭାବରେ ନ୍ୟୁଟ୍ରନ୍ ଶୋଷଣ କରିପାରେ, ତେଣୁ ଏହା ବିଖଣ୍ଡନ ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଉପଯୁକ୍ତ ସାମଗ୍ରୀ, ଯାହା ନ୍ୟୁକ୍ଲିୟର ଶକ୍ତି ଉତ୍ପାଦନର ସୁରକ୍ଷା ଏବଂ ଦକ୍ଷତାକୁ ଉନ୍ନତ କରିବାରେ ସାହାଯ୍ୟ କରେ।
ପତଳା ଫିଲ୍ମ ଜମା: ହାଫନିୟମ୍ ଟେଟ୍ରାକ୍ଲୋରାଇଡ୍ ହାଫନିୟମ୍-ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀର ପତଳା ଫିଲ୍ମ ଗଠନ ପାଇଁ ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା (CVD) ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ। ଏହି ଫିଲ୍ମଗୁଡ଼ିକ ମାଇକ୍ରୋଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ, ଅପ୍ଟିକ୍ସ ଏବଂ ସୁରକ୍ଷା ଆବରଣ ସମେତ ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରୟୋଗରେ ଅତ୍ୟାବଶ୍ୟକ। ସମାନ, ଉଚ୍ଚ-ଗୁଣବତ୍ତା ଫିଲ୍ମ ଜମା କରିବାର କ୍ଷମତା HfCl4 କୁ ଉନ୍ନତ ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ମୂଲ୍ୟବାନ କରିଥାଏ।